上海伯東美國 KRI 考夫曼離子源成功應(yīng)用于 LED-DBR 離子輔助鍍膜市場. 國內(nèi)某知名 LED 制造商經(jīng)過我司推薦采用考夫曼離子源 RFICP 325 安裝在 DBR 生產(chǎn)設(shè)備 1650 mm 蒸鍍機中.
考夫曼離子源客戶案例: 國內(nèi)某知名 LED 制造商
1. 離子源應(yīng)用: LED-DBR 鍍膜生產(chǎn)
2. 系統(tǒng)功能: 1650 mm 尺寸電子槍蒸鍍鍍膜機.
3. 離子源: 采用美國考夫曼離子源 KRi RFICP 325. 離子源 RFICP 325 提供的離子束(不論是離子能量還是離子密度)均是目前業(yè)界最高等級, 離子源 RFICP 325 特殊的柵極設(shè)計 E22 Grided 可以涵蓋 1650 mm 尺寸的蒸鍍機中大范圍的載具 substrate holder, 無論是生產(chǎn)良率或是均勻性都可達到最高生產(chǎn)效能.
4. 離子源功能: 通過考夫曼離子源 RFICP 325 實現(xiàn)離子輔助鍍膜 IBAD 及預(yù)清潔 Pre-clean 功能后, 所生產(chǎn)出的 LED-DBR 無論是亮度測試, 脫膜測試, 頂針測試, 光學(xué)特性等等… 都優(yōu)于目前一般業(yè)界蒸鍍機所搭配的離子源.
上海伯東考夫曼離子源安裝案例: KRI RFICP 325 考夫曼離子源安裝于 1650 mm 尺寸電子槍蒸鍍鍍膜機.
KRI 考夫曼離子源測試案例: LED-DBR 脫膜測試.
1. 在高倍顯微鏡下檢視脫膜測試
2. 測試結(jié)果
--------- 使用其他品牌離子源--- --------------------- 使用美國考夫曼 KRI RFICP 325 離子源 ----------------------
從上圖可以清楚看出, 使用其他品牌離子源, 樣品存在崩邊的問題; 使用上海伯東美國考夫曼離子源, 樣品無崩邊
上海伯東美國考夫曼離子源 KRI RFICP 325 優(yōu)點:
高離子濃度, 高離子能量, 離子束涵蓋面積廣
鍍膜均勻性佳, 提高鍍膜品質(zhì)
模塊化設(shè)計, 保養(yǎng)快速方便
增加薄膜附著性, 增加光學(xué)膜后折射率
全自動控制設(shè)計, 操作簡易
低耗材成本, 安裝簡易
上海伯東是美國考夫曼離子源 Kaufman & Robinson, Inc 中國總代理. 美國考夫曼公司離子源已廣泛應(yīng)用于離子濺射鍍膜 IBSD. 考夫曼離子源可控制離子的強度及濃度, 使濺射時靶材被轟擊出具有中和性材料分子而獲得高致密, 高質(zhì)量之薄膜. 考夫曼離子源可依客戶濺射工藝條件選擇 RFICP 射頻電源式考夫曼離子源或是 KDC 直流電原式考夫曼離子源.
