伯東公司為 Kaufman & Robinson, Inc (美國(guó)考夫曼公司) 大中國(guó)區(qū)總代理. 美國(guó)考夫曼公司Gridded Ion Sources (考夫曼柵極離子源), KDC (直流電源式考夫曼離子源) 已成功被應(yīng)用于光學(xué)鍍膜離子束拋光機(jī) (IBF Optical coating) 及晶體硅片離子束拋光機(jī) (IBF Clrystalline)工藝. 考夫曼公司離子源可變離子的強(qiáng)度及濃度, 控制拋光刻蝕速率更準(zhǔn)確使在拋光后的基材上獲得更平坦均勻性高的薄膜表面. 內(nèi)置型的設(shè)計(jì)更符合離子源于離子拋光機(jī)內(nèi)部的移動(dòng)運(yùn)行.
實(shí)際案例一:
1. 基材: 100mm 光學(xué)鏡片.
2. 離子源條件: Vb:800V(離子束電壓), Ib:84mA(離子束電流), Va:-160V(離子束加速電壓), Ar gas(氬氣).
3. 離子束拋光前平坦度影像呈現(xiàn)圖 離子束拋光后平坦度影像呈現(xiàn)圖
實(shí)際案例二:
1. 基材: 300mm晶體硅片
2. 離子源條件: Vb:1000V(離子束電壓), Ib:69mA(離子束電流), Va:-200V(離子束加速電壓) Ar gas(氬氣).
3. 離子束拋光前平坦度影像呈現(xiàn)圖 離子束拋光后平坦度影像呈現(xiàn)圖
實(shí)際安裝案例一:
KDC10 使用于光學(xué)鍍膜離子束拋光機(jī)
實(shí)際安裝案例二:
KDC40 使用于晶體硅片離子束拋光機(jī)
上海伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.
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