離子源助鍍鍍膜可改善膜層致密性、增加折射率、反射率, 提升產品性能指標.
某國內光學鍍膜制造商為了制備 TiO2 薄膜并提升高反膜性能, 其采用離子源輔助蒸鍍 TiO_2薄膜.
經過與伯東工程師討論, 該制造商最終采用伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 380, 同時為了為鍍膜工業(yè)提供穩(wěn)定的合適的真空環(huán)境, 伯東工程師為制造商搭配大抽速分子泵組 Hicube 700 Pro, 采用金屬密封, 極限真空度可達1x10-7hpa, 抽速可達 685 L/s, 很好保證成膜質量.
美國 KRI 射頻離子源 RFICP 380 特性:
1. 大面積射頻離子源
2. 提供高密度離子束, 滿足高工藝需求
3. 采用射頻技術產生離子, 無需電離燈絲, 工藝時間更長, 更適合時間長的工藝要求
4. 離子束流: >1500 mA
5. 離子動能: 100-1200 V
6. 中和器: LFN 2000
7. 采用自動控制器, 一鍵自動匹配
8. RF Generator 可根據工藝自行選擇離子濃度, EX: 1kW or 2kW
9. 離子源采用模塊化設計, 方便清潔/ 保養(yǎng)/ 維修/ 安裝
10. 柵極材質鉬和石墨, 堅固耐用
11. 通入氣體可選 Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, others
運行結果：
與正常蒸鍍工藝相比, 基片溫度相同條件下, 使用 KRI 射頻離子源 RFICP 380 輔助沉積工藝, 可以有效提高的 TiO2 薄膜折射率；離子束助鍍工藝激光器峰值功率離散度最小, 且平均峰值功率普遍高于正常蒸鍍工藝.
更多詳細信息, 歡迎通過下方的聯(lián)系方式與我們工程師交流》》》
伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應加熱設備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品牌的指定代理商.
若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯(lián)絡方式:
上海伯東: 羅先生 臺灣伯東: 王女士
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
ec@hakuto-vacuum.cn ec@hakuto.com.tw
www.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw
伯東版權所有, 翻拷必究！
