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為了解決飛秒激光加工硬質(zhì)材料所帶來(lái)的表面質(zhì)量差的問(wèn)題, 國(guó)內(nèi)某制造商用伯東聚焦型射頻離子源 RFICP 380 輔助飛秒激光加工技術(shù)對(duì)碳化硅微納結(jié)構(gòu)表面進(jìn)行刻蝕.

伯東 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 技術(shù)參數(shù):

推薦理由:

使用 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380可以準(zhǔn)確、靈活地對(duì)樣品選定的區(qū)域進(jìn)行刻蝕、減薄.

工藝簡(jiǎn)介：

在碳化硅表面制備微納結(jié)構(gòu)圖形, 然后通過(guò) KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 對(duì)碳化硅微納結(jié)構(gòu)進(jìn)行刻蝕, 以調(diào)控結(jié)構(gòu)的線寬和深度.

運(yùn)行結(jié)果:

1. 結(jié)構(gòu)表面粗糙度由約 106nm 降低到 11.8nm

2. 碳化硅線條結(jié)構(gòu)周?chē)拿袒鞠? 線條結(jié)構(gòu)表面的粗糙度得到顯著改善, 降低結(jié)構(gòu)表面的粗糙度實(shí)現(xiàn)高平滑度微光學(xué)元件的制備

3. 通過(guò) KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP 380 碳化硅菲涅爾波帶片展現(xiàn)出良好的聚焦和成像效果

伯東是德國(guó) Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國(guó) KRI 考夫曼離子源, 美國(guó)HVA 真空閥門(mén), 美國(guó) inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品牌的指定代理商.

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