伯東美國(guó) KRI 考夫曼離子源 KDC 100 技術(shù)參數(shù):
離子源型號(hào) |
|
Discharge |
DC 熱離子 |
離子束流 |
>400 mA |
離子動(dòng)能 |
100-1200 V |
柵極直徑 |
12 cm Φ |
離子束 |
聚焦 |
流量 |
2-20 sccm |
通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型壓力 |
< 0.5m Torr |
長(zhǎng)度 |
23.5 cm |
直徑 |
19.4 cm |
中和器 |
燈絲 |
* 可選: 可調(diào)角度的支架
推薦理由:
使用 KRI 聚焦型考夫曼離子源 KDC 100可一方面可以增加束流密度, 提高濺射率; 另一方面減小離子束的散射面積, 減少散射的離子濺射在靶材以外的地方引起污染.
在鍍制鉻膜的過(guò)程中, 其鍍鉻的真空容器要求漏率不超過(guò)10-8Pa m3/s, 為了保證客戶(hù)鍍鉻真空容器的漏率, 伯東工程師給客戶(hù)推薦氦質(zhì)譜測(cè)漏儀 ASM 340
氦質(zhì)譜測(cè)漏儀 ASM 340 其技術(shù)參數(shù)特點(diǎn)如下:
1. 前級(jí)泵 抽速 15 m3/h
2. 分子泵 Splitflow 50 對(duì)氦抽速 2.5 l/s
3. 測(cè)漏精度:
真空模式: 5E-13 Pa m3/s
吸槍-模式: 5E-10 Pa m3/s
4. 移動(dòng)式操作面板(有線、無(wú)線)
5. 集成SD卡, 方便數(shù)據(jù)處理
6. 抗破大氣、抗震動(dòng), 降低由操作失誤帶來(lái)的風(fēng)險(xiǎn)性
7. 豐富的可選配件, 如吸槍、遙控器、小推車(chē)、旁路裝置、標(biāo)準(zhǔn)漏孔等
運(yùn)行結(jié)果:
1. 使用KRI 聚焦型考夫曼離子源 KDC 100輔助鍍制五金連接件鉻膜后, 鍍制的鉻膜品質(zhì)更好, 厚度更均勻, 表面更致密, 薄膜吸附儀更強(qiáng)
2. 氦質(zhì)譜測(cè)漏儀 ASM 340 有效保證了鍍鉻真空容器的真空度
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