該制造商的真空離子鍍膜技術(shù), 利用 KRI 考夫曼聚焦型射頻離子源 RFICP380 轟擊靶材形成離子, 并使離子在強(qiáng)磁場的驅(qū)動(dòng)下吸附于鉆頭或鑼刀上形成鍍層, 制備出鍍膜鉆頭及鍍膜銑刀.
用于濺射的 KRI 聚焦型射頻離子源 RFICP380 技術(shù)參數(shù):
射頻離子源型號(hào) |
RFICP 380 |
Discharge 陽極 |
射頻 RFICP |
離子束流 |
>1500 mA |
離子動(dòng)能 |
100-1200 V |
柵極直徑 |
30 cm Φ |
離子束 |
聚焦 |
流量 |
15-50 sccm |
通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型壓力 |
< 0.5m Torr |
長度 |
39 cm |
直徑 |
59 cm |
中和器 |
LFN 2000 |
推薦理由:
聚焦型濺射離子源一方面可以增加束流密度, 提高濺射率; 另一方面減小離子束的散射面積, 減少散射的離子濺射在靶材以外的地方引起污染
運(yùn)行結(jié)果:
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