因產(chǎn)品配置不同, 價格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實際成交合同為準
上海伯東代理美國考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 射頻離子源 RFICP 40, 離子束可選聚焦/ 平行/ 散射.
KRI 射頻離子源 RFICP 40 屬于大面積射頻離子源, 離子束流: >100 mA; 離子動能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000; 流量 (Typical flow): 3-10 sccm.
采用射頻技術(shù)產(chǎn)生離子, 無需電離燈絲, 工藝時間更長.
離子源采用模塊化設(shè)計, 方便清潔/ 保養(yǎng)/ 維修/ 安裝.
適用于集成在小型的真空腔體內(nèi).
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP 40 特性:
1. 離子源放電腔 Discharge Chamber, 無需電離燈絲, 通過射頻技術(shù)提供高密度離子, 工藝時間更長.
2. 離子源結(jié)構(gòu)模塊化設(shè)計, 使用更簡單; 基座可調(diào)節(jié), 有效優(yōu)化蝕刻率和均勻性.
3. 提供聚焦, 發(fā)散, 平行的離子束
4. 離子源自動調(diào)節(jié)技術(shù)保障柵極的使用壽命和可重復的工藝運行
5. 柵極材質(zhì)鉬和石墨,堅固耐用
6. 離子源中和器 Neutralizer, 測量和控制電子發(fā)射,確保電荷中性
KRI 射頻離子源 RFICP 40 技術(shù)參數(shù):
|
離子源型號 |
RFICP 40 |
|
Discharge |
RFICP 射頻 |
|
離子束流 |
>100 mA |
|
離子動能 |
100-1200 V |
|
柵極直徑 |
4 cm Φ |
|
離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
|
流量 |
3-10 sccm |
|
通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
|
典型壓力 |
< 0.5m Torr |
|
長度 |
12.7 cm |
|
直徑 |
13.5 cm |
|
中和器 |
LFN 2000 |
* 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量
伯東KRI 射頻離子源 RFICP 40 應用領(lǐng)域：
1. 預清洗
2. 表面改性
3. 輔助鍍膜(光學鍍膜)IBAD,
4. 濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
5. 離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD
6. 離子蝕刻 IBE
若您需要進一步的了解詳細信息或討論, 請參考以下聯(lián)絡方式:
上海伯東: 羅先生 臺灣伯東: 王女士
T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161
F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049
M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958
www.hakuto-china.cn www.hakuto-vacuum.com.tw
伯東版權(quán)所有, 翻拷必究!
