去除函數(shù), 是光學(xué)面形確定性加工的基礎(chǔ), 去除函數(shù)指的是單位時間內(nèi)材料去除量在空間上的分布函數(shù), 反應(yīng)材料的去除速率. 影響光學(xué)表面拋光加工精度的主要因素之一是去除函數(shù)的形狀、穩(wěn)定性以及峰值去除率. 高斯型的去除函數(shù)是光學(xué)鏡面拋光加工最理想的去除函數(shù)形狀.
在光學(xué)加工中, 伯東工程師推薦使用 KRI 射頻離子源, 其主要優(yōu)點(diǎn)有:
1. 不使用陰極, 靠射頻輻射激發(fā)等離子體, 因此, 不受使用氣體的限制, 工作壽命也較長.
2. 射頻離子源是無極放電的離子源, 因此不存在陰極消耗, 使用壽命較長, 對被加工工件的污染可大大減少;
3. 射頻感應(yīng)生產(chǎn)的等離子體中只有單荷離子, 幾乎沒有雙荷離子, 因此, 離子對屏柵的濺射較小, 也增加了束流的均勻性.
伯東代理美國考夫曼公司 KRI 離子源, 可選的射頻離子源類型多, 客戶可根據(jù)自己的工藝選擇所對應(yīng)之型號: 射頻離子源 RFICP 380, 射頻離子源 RFICP 220, 射頻離子源 RFICP 140, 射頻離子源 RFICP 100, 射頻離子源 RFICP 40
通過實際應(yīng)用表明, 射頻離子源去除函數(shù)的形狀為回轉(zhuǎn)高斯形, 在靶距為30mm, 離子能量為 900eV時, 去除函數(shù)的峰值去除率 194nm/min, 體積去除率為19.2x10-3mm3/min, 半峰全寬值為9.2mm; 并且去除函數(shù)的峰值去除率與體積去除率的變化均在3%以內(nèi), 半峰全寬值的變化在1.7%以內(nèi).
因此, 射頻離子源具有光學(xué)鏡面拋光加工所需的去除效率, 而且射頻離子源具有好的穩(wěn)定性, 具備光學(xué)加工的潛能.
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