反滲透裝置純水設(shè)備
反滲透裝置主要是通過膜兩側(cè)的壓差為動力，只允許水通過而截留除了氫離子和氧離子的其他離子，對各種離子除去率也不一樣，這個也是由于其結(jié)構(gòu)和原理所決定的，據(jù)統(tǒng)計反滲透對3+離子的除去率大概在95%～99%,對2+離子的除去率在92%～99%%，對1+離子除去率在70%～95%左右。對2-陰離子除去率80%～90%，1-陰離子除去率在75%～95%左右，除硝酸根離子除去率50%～75%。反滲透純水設(shè)備廣泛應(yīng)用于食品、化工、涂裝、紡織、紙巾、醫(yī)藥、機械、電子等行業(yè)。
反滲透裝置純水設(shè)備按要求分：
1、純凈水設(shè)備（10兆歐以下）
2、超純水設(shè)備（10兆歐以上）
反滲透裝置純水設(shè)備污染物去除率：
脫鹽率：≥97%
有機物去除率：≥95%
細(xì)菌去除率：≥99%
反滲透裝置純水設(shè)備常見的工藝流程有：
1、 原水箱→原水泵→石英砂過濾器→活性炭過濾器→精密過濾器→增壓泵→反滲透裝置→殺菌器→凈水箱→用水點
2、 原水→原水泵→石英砂過濾器→活性炭過濾器→過濾器→反滲透設(shè)備→混合離子交換器→殺菌器→用水點
3、 原水箱→原水泵→→石英砂過濾器→活性炭吸附器→精密過濾器→一級高壓泵→一級反滲透裝置→中間水箱→二級高壓泵→二級反滲透→紫外線殺菌器→凈水箱→用水點
4、 原水→原水泵→→石英砂過濾器→活性炭→過濾器→二級反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱 →純水泵→紫外線殺菌器→混床→0.22μm微孔過濾器→用水對象
反滲透裝置純水設(shè)備技術(shù)特點：
1、 采用先進膜技術(shù)，核心部件采用美國品牌
2、 工藝技術(shù)成熟，設(shè)計合理
3、 液位、壓力自動控制，自動開停機
4、 采用無水保護系統(tǒng)
反滲透裝置純水設(shè)備用途
涂裝、電泳、食品等各行業(yè)的配制水
金屬除漬清洗用水，化工助劑配制水；
燈具、工藝品清洗用水；涂料、膠粘劑配制水；
光學(xué)玻璃清洗用水；洗滌劑配制水。
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