產品參數 | |||
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品牌 | CRF/誠峰智造 | ||
移動方式 | 輪式 | ||
加工定制 | 是 | ||
驅動方式 | 電源 | ||
功率 | 600W | ||
重量 | 250kg | ||
名稱 | 真空式等離子處理系統(tǒng) | ||
控制系統(tǒng) | PLC 觸摸屏 | ||
容量 | 80L | ||
層數 | 8 | ||
處理面積 | 400L*300W | ||
可選用氣體 | Ar、N2、H2、CF4、O2 | ||
可售賣地 | 全國 | ||
用途 | 半導體行業(yè)產品表面等離子清洗 | ||
類型 | 等離子清洗機 | ||
型號 | CRF-VPO-8L-S |
產品特點:
超大處理空間,提升處理產能,采用PLC 觸摸屏控制系統(tǒng),控制設備運行;
可按照客戶要求定制設備腔體容量和層數,滿足客戶的需求;保養(yǎng)維修成本低,便于客戶成本控制;
高精度,快響應,良好的操控性和兼容性,完善的功能和技術支持。
應用范圍:
真空等離子清洗機適用于印制線路板行業(yè),半導體IC領域、硅膠、塑膠、聚合體領域,汽車電子行業(yè),航空工業(yè)等。
印制線路板行業(yè),高頻板表面活化,多層板表面清潔、去鉆污,軟板、軟硬結合板等離子表面清潔、去鉆污,軟板補強前活化。
半導體IC領域,COB、COG、COF、ACF工藝,用于打線、焊接前的清洗;硅膠、塑膠、聚合體領域硅膠、塑膠、聚合體的表面粗化、刻蝕、活化。
真空等離子清洗機采用輝光等離子體方式作為清洗的介質,可有效防止液體清洗物質對被清洗目標的造成的二次污染。該機器設備配置了真空泵,在維持真空設備內腔真空的狀況下,能將等離子體中反應的污染物排出,那樣可在短時間內快速徹底消除污染物。