|
設備名稱： |
半自動顯影清洗機 |
|
適應工件： |
2～8寸晶圓片清洗 |
|
批量產能： |
8寸25PCS/批 |
|
工藝流程： |
QDR←顯影→QDR←顯影→QDR |
|
工藝槽功能： |
循環(huán)過濾+加熱冷卻+上下抖動+硅片滾動 |
|
主要材料： |
金屬骨架+PVC/PPW殼板，槽體采用PPN/PVDF材質 |
|
運送方式： |
手動傳送 |
|
節(jié)拍時間： |
依工藝5～15min可調 |
|
其他說明： |
此設備可根據客戶要求定制全自動顯影機 |
