機(jī)械特點(diǎn)：
真空室尺寸：Φ600-1800mm
60點(diǎn)/80點(diǎn)式光學(xué)膜厚監(jiān)控
使用均勻分布的高離子電流密度的離子源
搭載雙電子槍，多點(diǎn)和環(huán)型坩堝可鍍100層以上
利用自動(dòng)蒸鍍控制系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)蒸鍍過程
工件架可選擇鐘罩式或行星式
排氣系統(tǒng)可選擇擴(kuò)散泵+低溫冷凝器(POLYCOLD)或冷凝泵
設(shè)備尺寸：
設(shè)備型號(hào) OTFC-1800CBI/DBI
真空室 SUS304, φ1800mm×1920mm (H)
工件架 φ1600mm
工件架轉(zhuǎn)速 10rpm to 30rpm(可變)
光學(xué)膜厚控制 HOM2-R-VIS350A光學(xué)膜厚監(jiān)控儀
波長(zhǎng)范圍：350nm to 1100nm
銷售技術(shù)楊經(jīng)理：18103045976/13723521401
反射式或透射式
石英晶振膜厚計(jì) XTC/3+6點(diǎn)式石英晶體傳感器
蒸發(fā)源 電子槍2套
離子源 23cmRF離子源
排氣系統(tǒng) 機(jī)械泵+2個(gè)擴(kuò)散泵+Polycold（或2個(gè)冷凝泵）
機(jī)械性能：
達(dá)到壓力 7.0×10-5 Pa 以下
排氣時(shí)間 20分（大氣壓～1.3×10-3 Pa)
基板溫度 ：350℃
設(shè)備尺寸 約5700mm(W)×7700mm(D)×4000mm(H)
工作條件：
電源 3相, 200V, 50/60Hz, 約150kVA
水流量 180升/分以上
空氣壓力 0.5MPa以上
重量 約 11200kg
